インスペクション方法およびインスペクション装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セルならびにデバイス製造方法

Inspection method and inspection apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell, and method of manufacturing device

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for judging a parameter of a target structure not-so-sensitive to the change of a structure therebelow from scatterometry data. SOLUTION: In the scatterometry method, the difference target having sensitivities, which are different from each other, for a related parameter is printed in a calibration matrix to obtain a difference spectrum. A main component analysis is given to the difference spectrum so that a sensitivity to the change of a structure therebelow obtains a calibration function lower than a calibration function from the spectrum obtained from a single target. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
【課題】下にある構造体の変化に対してそれほど敏感でないターゲット構造体のパラメータをスキャトロメトリデータから判定する方法を提供する。 【解決手段】スキャトロメトリ法では、関係パラメータに対してそれぞれ異なる感度を有する差ターゲットが、キャリブレーションマトリックスでプリントされ、差スペクトルが得られる。下にある構造体の変化に対する感度が単一ターゲットから得られたスペクトルから得られたキャリブレーション関数より低いキャリブレーション関数を得るために、差スペクトルに主要構成要素分析が与えられる。 【選択図】なし

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