有機elデバイスの製造方法

Manufacturing method of organic el device

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of organic EL device having a high image quality performance by controlling a layer of conductive material relevant to a formation of electron injection layer to be formed in a state bridging across neighboring electrodes.SOLUTION: After preparing a substrate 10, plural anodes 11, a hole injection layer 121, a hole transport layer 122 and an organic light-emitting layer 123 are formed in this order and subsequently a sacrificial film 20 is formed. The sacrificial film 20 is formed continuously in a state covering over above a part of plural anodes 11, and above the boundary of the parts. Subsequently, an electron injection preparation film 130 is formed using a conductive material. When the sacrificial film 20 is peeled off and removed, a part of the electron injection preparation film 130 adhering on the electron injection preparation film 130 is also removed; thus the electron injection layer 13 is formed. Finally, cathodes 14 are formed.
【課題】電子注入層形成に係る導電性材料からなる層が隣り合う電極間に跨った状態で形成されることを抑制し、高い画質性能を有する有機ELデバイスを製造する方法を提供する。 【解決手段】基板10の準備、アノード11の形成、ホール注入層121の形成、ホール輸送層122の形成、有機発光層123の形成の後、犠牲膜20を形成する。犠牲膜20は、複数のアノード11の各一部の上方、および当該各一部同士の間の上方、の両方を覆うように連続した状態で形成される。その後、導電性材料を用い電子注入準備膜130を形成する。そして、犠牲膜20を剥離・除去することで、これに付着した電子注入準備膜130の一部も除去され、電子注入層13が形成される。最後に、カソード14を形成する。 【選択図】図1

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